如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話(huà),可以
產(chǎn)品名稱(chēng):
AMAYA天谷制作所常壓CVD設(shè)備半導(dǎo)體設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào):
AMAX800V
產(chǎn)品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣價(jià)格:
0.00 元
關(guān)注指數(shù):57
產(chǎn)品文檔:
無(wú)相關(guān)文檔
AMAYA株式會(huì)社天谷制作所AMAX800V
常壓CVD裝置，準(zhǔn)備了滿(mǎn)足顧客需求的產(chǎn)品陣容。同時(shí)，定做也對(duì)應(yīng)。
對(duì)應(yīng)于半導(dǎo)體制造用、太陽(yáng)能電池制造用等各種用途。從少量生產(chǎn)到大量生產(chǎn)
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種
采用SiC托盤(pán)防止重金屬污染，從低溫（200℃）到中溫（500℃）區(qū)域可以廣泛成膜
AMAYA天谷制作所常壓CVD設(shè)備半導(dǎo)體設(shè)備
的詳細(xì)介紹
日本AMAYA株式會(huì)社天谷制作所
具有極端連續(xù)型的高生產(chǎn)率常壓CVD設(shè)備
AMAX800V
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8英寸 每小時(shí) 100 張的高吞吐量
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使用SiC托盤(pán)的重金屬污染對(duì)策和長(zhǎng)期穩(wěn)定的工藝
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提高可維護(hù)性
特征
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通過(guò)改進(jìn)輸送機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了高吞吐量。
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SiH4，PH3，B2H6和O2從AMAX型分散頭分散后混合并表面反應(yīng)，優(yōu)化后在低溫和低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。
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使用SiC托盤(pán)很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
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標(biāo)配自動(dòng)托盤(pán)更換功能，實(shí)現(xiàn)工人**，縮短維護(hù)時(shí)間。 此外，自動(dòng)抬起頭部底座的機(jī)構(gòu)便于清潔。
性能
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均勻的薄膜厚度
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≦±3.0%
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支持的晶圓尺寸
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8寸
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氣體種類(lèi)
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SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2
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薄膜沉積溫度
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350°C~450°C
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生產(chǎn)力
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100個(gè)/小時(shí)
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主要規(guī)格
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設(shè)備尺寸
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1460毫米（闊） x 3830毫米（深） x 2250毫米（高）
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加熱機(jī)構(gòu)
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電阻加熱
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裝載卸載
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機(jī)器人 CtoC 運(yùn)輸
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分散頭（氣體噴嘴）
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AMAX頭（標(biāo)準(zhǔn)2頭，3頭可用）
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